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El Director Nacional de INAPI, Esteban Figueroa, se reunió con María José Morales y Fabián Aravena, profesionales seleccionados para el Belt and Road Master Program on Intellectual Property del Gobierno de China, tras postular con el patrocinio de la institución.

En una ceremonia realizada en la sede del Instituto Nacional de Propiedad Industrial (INAPI), el Director Nacional, Esteban Figueroa, se reunió con los dos ganadores chilenos de la prestigiosa beca Belt and Road Master Program on Intellectual Property, otorgada por el Gobierno de China. Los seleccionados, María José Morales Codelia y Fabián Ignacio Aravena Canales, fueron patrocinados por INAPI, que abrió por primera vez este proceso a profesionales externos a la institución.

El programa forma parte de la Belt and Road Initiative y es organizado por la Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China (CNIPA), en conjunto con el Ministerio de Educación y el Consejo de Becas de China. Con una duración de dos años, combina un periodo de estudio en universidades de alto nivel en China con la elaboración de una tesis en el país de origen, y entrega formación avanzada junto con oportunidades de intercambio internacional.

La convocatoria de abril incluyó un proceso de selección transparente, que evaluó formación, experiencia en propiedad intelectual, inglés y motivación, con puntajes adicionales para postulantes de regiones y pueblos originarios.

María José Morales es ingeniera en Biotecnología Molecular y magíster en Ciencias Biológicas, con amplia experiencia como agente de patentes en ciencias de la vida, mientras que Fabián Aravena es abogado, máster en Derecho y Tecnologías y en Administración de Empresas, especializado en industrias creativas y de entretenimiento. Ambos destacan por su trayectoria y compromiso con el desarrollo de la propiedad intelectual en Chile.

“Para INAPI, esta es una oportunidad de fortalecer el capital humano avanzado en propiedad intelectual y de profundizar la cooperación con China en un ámbito clave para la innovación y el desarrollo sostenible”, destacó Esteban Figueroa. “Confiamos en que los conocimientos adquiridos por María José y Fabián se traduzcan en beneficios concretos para el sistema nacional y sus usuarios”, añadió.

La participación de ambos profesionales en este programa representa un importante paso en sus trayectorias y una oportunidad para enriquecer el conocimiento especializado en propiedad intelectual en Chile. La experiencia y las redes que desarrollen durante su formación contribuirán al fortalecimiento de las capacidades técnicas del país y al intercambio de buenas prácticas a nivel internacional.